【CSEAC 2022】魅杰光电参展第十届中国半导体设备年会

    魅杰光电科技（上海）有限公司专业从事高端微电子检测装备研发、生产、经营为一体的高科技企业。公司技术和研发实力雄厚，核心人员均来自科磊（KLA）、中芯国际、北方华创等国内外知名厂商，在半导体检测领域具备丰富的产品开发及项目实施经验。形成从光学设计、图形处理、算法分析以及控制技术的光、机、电、算一体化的半导体量测技术解决方案。所有技术100%来源于公司自主研发.

公司产品主要涵盖关键尺寸量测、晶圆缺陷检测、套刻精度检测、非接触式爆光机四大类产品，主要应用在第三代化合物半导体、滤波器、硅基OLED、功率器件以及CIS先进封装等新兴市场领域。公司产品受到中电科、好达电子、泰科天润、士兰微、211所、仕佳光子等客户的认可，各项性能指标处于国内领先水平，填补了该领域国内市场空白。公司将持续加大研发力度，打破国外在高端量检测领域垄断，持续为国内 fab厂的前道量检测需求服务，实现高端量测设备的国产化。

MACScan 5000A®是魅杰光电科技推出的新一代光学关键尺寸测量产品，具备全自动线宽量测能力，为190纳米以上的线宽工艺提供综合解决方案，可应用于集成电路、化合物半导体、MEMS、射频、功率器件、LED和光通信等领域。主要技术指标如下：

1）该产品主要应用于190nm以上线宽工艺。

2）关键尺寸测量重复性3σ＜10nm

3）关键尺寸测量准确性3σ＜10nm

4）与CD-SEM匹配度<20nm

OVLScan 5000A®是魅杰光电科技在原来OVLScan 3000A®基础上推出的新一代光套刻精度测量产品，为0.13微米以上的线宽工艺提供套刻精度解决方案。主要技术指标如下：

1）该产品主要应用于0.13微米以上线宽工艺。

2）TIS＜3 nm

3）TIS 3 Sigma<3 nm

4）长期动态精度＜2nm

AIRScan 3000A®是魅杰光电科技推出新一代晶圆缺陷自动检测系统，为0.5微米以上各类缺陷提供检测方案。主要技术指标如下：

1）可检测500 nm以上的缺陷大小。

2）可检测凸起、凹坑、划痕、污点和裂纹。

3）可精确区域划分分析，对缺陷特征形状、线条提取与异常提取。

Litho UV1000®是魅杰光电科技推出非接触式全场曝光机。为0.8微米以上光刻工艺提供解决方案，主要技术指标如下：

1）曝光面积: 210×210mm。

2）对准精度≤±500nm；

3）曝光强度：0～≥40mw/cm2可调（光束角度2°）

4）WPH>120

5）分辨率800nm

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